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半导体商场景气回归单晶圆清洗机占有商场干流

来源:安博电竞注册中国官网    发布时间:2023-07-19 20:09:03

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  商场景气回归,单晶圆清洗机占有商场干流。依据 WSTS 数据,2017年全球半导体销售额现已超越 4000 亿美元大关,并坚持高景气态势。从商场销售额来看,半导体设备作为工业链上游环节,全体的景气周期与半导体终端商场的周期根本同步,但周期性更强。半导体设备中超越多半是晶圆处理设备,全体商场处于巨子独占形式。跟着越来越先进,清洗过程的影响也越来越大,约占全体过程的33%。从清洗计划来说,单晶圆清洗代替批量清洗是先进制程的干流,反映在设备上便是单晶圆清洗机对槽式全自动清洗机的代替,2016年前者商场比例约为后者的四倍。兆声波清洗作为单晶圆清洗的一种,虽然作用好,但其由于均匀性和损害性的问题一向隔绝其开展,而我国清洗设备公司独家开发的SAPS和

  集成电路制程与结构晋级带动清洗机商场量价齐升。依据TMR数据,2017年全球清洗机设备商场比例约30亿美元,2015-2020CAGR估计为6.8%,全体出现一个稳定增加的态势。商场增加的驱动力能够分为两部分,一方面依据摩尔定律,集成电路晶体管的线宽正在也会持续缩小,制程晋级后清洗的频率需大幅进步,带来清洗设备量升;另一方面,为了进一步进步集成电路容量和功用,半导体结构开端3D化,此刻清洗作用不能只是停留在外表,还需求在无损情况下清洗内部污染物,这带来了清洗设备的价升。技能进步的驱动力将长时刻存在,因而咱们以为关于清洗设备商场的拓宽将长时刻持续。

  我国企业差异化技能业界抢先,优质的研制团队和知识产权维护是柱石。我国清洗设备公司比较国外巨子在规划、产品系列数和研制投入等的绝对值上有较大距离,但以盛美为代表的国内公司经过自我立异,完结了业界抢先的差异化处理计划。在坚持兆声波清洗作用好的优势前提下,有效地处理了清洗不均匀和晶片损害的问题,在当时节点具有不输于世界大厂的工艺掩盖规划和清洗作用。一同公司聘请了多位工业界具有丰厚经历的参谋和研讨人员并具有超越193个专利,保证未来公司良性开展。

  商场空间较大,潜在客户订单充分,清洗机掩盖国内最新制程。以盛美半导体为例,按咱们的假定核算,若2020年盛美在单晶圆湿法清洗机的市占率能到达20%,全体的营收规划将到达4.48亿美元,未来开展的天花板很高。一同依据公司2018年5月的出资者会议,现在公司仅SAPS产品已有的客户2018/19年的清洗机需求量分别为136台和221台,若依照SAPS清洗机单台300万美元核算的线亿美元;假如依照现在的收购比例,2019年清洗机订单额有望挨近一亿,这还不考虑TEBO和电镀铜设备的奉献。此外,盛美清洗机是国内仅有进入最新14nm产线验证的清洗设备厂商。

  国产半导体清洗设备技能领导者值得要点重视。北方华创(002371)原有清洗设备产品线已根本掩盖了泛半导体范畴,90nm-28nm产品均在中芯世界完结产线认证,完结对Akrion后进一步丰厚产品线,尤其是批式清洗范畴。盛美半导体(NASDAQ:ACMR)偏重于单片清洗设备,在兆声波清洗范畴具有多项中心专利和技能。咱们以为两家公司未来将会显着获益国内半导体制作范畴的本钱投入,增加确定性较高。别的主张重视相同切入清洗设备范畴的至纯科技(603690)。

  危险提示:技能研制和推行不及预期;国家方针和资金扶持不及预期;技能和专利维护的不确定性;潜在客户产线建造进展不及预期。

  半导体工业全体景气上升,设备商场动摇更灵敏。半导体工业作为一个十分老练的职业,具有较为显着的周期性。从半导体商场销售额的视点来看,2005年以来,全球半导体工业在2009,2012和2016年均敞开了新一轮的景气周期。依据WSTS的数据,2017年全球销售额初次超越4000亿美元大关,同比增加22%。考虑到数据中心、人工智能轿车电子无人驾驶等主题对半导体的需求持续增加,2018年全球首要职业协会持续坚持职业较高增速的判别。

  依据半导体供应链和库存特色,上游对景气量的反应比较下流一般存在扩大效应。半导体设备作为工业链上游环节,全体的景气周期与半导体终端商场的周期根本同步,但动摇性显着进步,如图1所示。首要的原因是景气量决议了下流工厂扩产进程,而半导体设备作为高投入(扩产本钱约占80%)的长时刻本钱(长时刻折旧摊销),订单的动摇对景气量的改变较为灵敏,因而关于半导体设备板块的出资需求掌握景气周期的时刻节点,顺势而为。

  晶圆处理设备占有设备商场多半以上比例,且跟着工艺晋级有望进一步进步。半导体设备按不同工序能够分为晶圆处理设备、封装设备、测验设备和其他设备,其间晶圆处理设备由于技能最杂乱,因而占有了商场80%以上的比例。依照摩尔定律,集成电路的精度和密度会越来越高,这对晶圆制作设备提出了更高的要求。一方面,技能上需求更先进的设备进行处理,这将反映在设备更高的单价上,如中芯世界向ASML购买的最新EUV光刻机一台就需求1.2亿美元;另一方面,跟着工艺晋级,屡次曝光逐渐代替单次曝光,别的在刻蚀机、清洗机等设备的数量和运用频率也将越来越高,这将反映在设备订单数量的进步。依据SEMI测算,2018年晶圆处理设备的比例将从17年的80.5%上升到81.8%。

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